《薄膜物理与技术》：探索材料科学的前沿领域
在材料科学领域，薄膜技术因其独特的物理特性和广泛的应用前景而备受关注。《薄膜物理与技术》一书，由著名材料科学家张三教授编著，由科学出版社出版，于2018年首次出版，本书全面介绍了薄膜物理的基本原理、制备技术以及在实际应用中的重要作用。
作者信息：
作者：张三
出版社：科学出版社
出版时间：2018年
本书介绍：
《薄膜物理与技术》一书旨在为读者提供一部全面、系统的薄膜物理与技术知识手册，作者张三教授凭借其在材料科学领域的丰富经验和深厚学术造诣，对薄膜物理的基本理论、制备方法、性能特点以及应用领域进行了深入浅出的阐述。
本书大纲：
第一章：引言
- 薄膜技术的发展背景与意义
- 薄膜物理的基本概念
第二章：薄膜物理基础
- 薄膜结构及其特性
- 薄膜生长机制
- 薄膜物理基本方程
第三章：薄膜制备技术
- 真空蒸发法
- 磁控溅射法
- 化学气相沉积法
- 分子束外延法
第四章：薄膜性能与表征
- 薄膜的光学性能
- 薄膜的力学性能
- 薄膜的导电性能
- 薄膜的磁性能
- 薄膜的化学稳定性
第五章：薄膜应用
- 薄膜在电子信息领域的应用
- 薄膜在光电子领域的应用
- 薄膜在能源领域的应用
- 薄膜在生物医学领域的应用
第六章：薄膜技术的发展趋势
- 新型薄膜材料的开发
- 薄膜制备技术的创新
- 薄膜在新兴领域的应用前景
本书通过丰富的实例和深入浅出的理论分析，使读者能够全面了解薄膜物理与技术这一领域，无论是从事材料科学研究的学者，还是对薄膜技术感兴趣的读者，都能从本书中获得宝贵的知识和启示。
在第一章中，作者首先介绍了薄膜技术的发展背景与意义，阐述了薄膜技术在电子信息、光电子、能源、生物医学等领域的广泛应用，随后，在第二章中，作者对薄膜物理的基本概念、结构特性、生长机制以及基本方程进行了详细的阐述。
第三章重点介绍了薄膜的制备技术，包括真空蒸发法、磁控溅射法、化学气相沉积法、分子束外延法等，第四章则深入探讨了薄膜的性能与表征，包括光学性能、力学性能、导电性能、磁性能以及化学稳定性等方面。
第五章详细介绍了薄膜在电子信息、光电子、能源、生物医学等领域的应用，展示了薄膜技术在各个领域的重要作用，在第六章中，作者对薄膜技术的发展趋势进行了展望，提出了新型薄膜材料的开发、薄膜制备技术的创新以及薄膜在新兴领域的应用前景。
《薄膜物理与技术》一书是一本集理论与实践于一体的优秀著作，对于推动我国薄膜技术的发展具有重要的参考价值。